沈阳化工大学新能源材料与器件分析及测试系统配套设备采购项目招标公告

品目1：电化学工作站 2套 国产

★1.两个通道最大电位范围：±10 V。

2.最大电流：≥±250 mA 连续（两个通道电流之和）, ≥±350 mA 峰值。

3.槽压：≥±13 V。

4.恒电位仪上升时间：≤1 ms。

5.恒电位仪带宽（-3分贝）：≤1 MHz。

6.电位范围：±10 mV, ±50 mV, ±100 mV, ±650 mV, ±3.276 V, ±6.553 V, ±10 V。

7.所加电位分辨：电位范围的≤0.0015%。

★8.所加电位准确度：≤±1mV，±满量程的≤0.01%。

9.所加电位噪声：< 10 mV 均方根植。

10.测量电流范围：±10 pA至±0.25 A，≥12量程。

11.测量电流分辨：电流量程的≤0.0015%，最低 ≤0.3fA。

12.电流测量准确度：电流灵敏度大于等于1e-6 A/V时为≤0.2%，其他量程≤1%。

13.零阻电流计。

14.2，3，4电极结构，浮动地线或实地。

15.输入偏置电流：< 50pA。

品目2：双工位手套箱 1套 国产

1.箱体

★1.1箱体：≥2400mm（长）×770mm（下宽）×900mm（高）、材质为≥3mm厚SUS304。

★1.2前窗：倾斜设计的操作面，≥8mm厚可拆卸安全钢化玻璃视窗（法兰密封）。

1.3手套口：直径≥220mm硬铝合金实心棒材加工而成，经耐腐蚀阳极氧化处理。

1.4手套：丁基橡胶手套，手套口径≥8英寸，厚度≥0.4 mm。

1.5压力：使用压力区间为±10mbar。

1.6压力开关：微压压力传感器。

1.7照明：LED光源。

1.8置物架：箱体设置≥2层置物架。

1.9支架：高≥950mm，安装有万向脚轮及不锈钢水平支撑座。

1.10接口：箱体设置≥6个KF40接口，以便于接入气体、液体、信号等。

1.11过滤器：箱体进出口处采用复合HEPA标准的过滤精度≤0.3微米高效过滤器。

1.12泄漏率：＜0.001vol%/h。

1.13自动清洗：箱体带自动清洗功能，快速置换箱体内气氛。

2.过渡舱    

★2.1位置：箱体右侧有大小过渡舱各1个（无焊钉式螺杆连接）。

2.2大过渡舱尺寸：≥Φ390mm*600mm，材质为≥3mm厚SUS304，活塞门。

2.3小过渡舱尺寸：≥Φ150mm*330mm，材质为≥3mm厚SUS304，杠杆锁压紧门。

2.4大过渡舱内设可滑动SUS304托盘。

2.5小过渡舱内设半圆形SUS304托盘。

2.6大过渡舱手动开闭，具有自动抽气补气功能，通过触摸屏控制。

2.7小过渡舱手动开闭，通过三通球阀手动操作抽气补气。

2.8真空度：≤－0.1MPa，带显示，配置耐震真空压力表。

3.循环净化再生系统

3.1循环风机

3.1.1风机：流量≥90m³/h，采用变频器控制。

3.1.2安装：安装在密闭的经压力测试的不锈钢容器内。

3.1.3降噪：装有风机的不锈钢容器下部有减震装置，降低风机噪音。

3.1.4水冷：装有水冷回路，可接水路降低风机运行时产生的热量。

★3.2双净化柱

3.2.1净化材料：每柱填装≥5KG分子筛、≥5KG铜触媒。

3.2.2净化能力：每柱除水：≥2KG、氧气：≥60升。

3.2.3净化效果：水氧含量＜1PPM。

3.2.4工作气体：纯度为≥99.999% 的N2（氮气）或Ar（氩气）。

3.3再生系统  

3.3.1再生：净化材料吸附饱和后，用混合气再生，恢复净化材料净化能力。

3.3.2混合气：H₂ 5%、N₂ 95% ；H₂ 5%、Ar 95%。

★4.有机溶剂吸附系统

4.1填装水洗真空烘烤优质活性炭≥6KG，吸附粉尘及有机溶剂，饱和后更换新材料。

4.2该系统前后装有阀门且设有抽真空补气回路，更换材料时不会破坏箱体气氛。

5.控制显示系统

5.1控制方式：PLC、≥7寸触摸屏、循环再生控制、密码保护、中英界面。

5.2压力控制：触摸屏设置，系统自动控制箱体压力（工作压力-10mbar ~ +10mbar）。

5.3脚踏阀：微调箱体压力、方便操作。

5.4安全阀：箱体压力超过12mbar时自动开启安全阀泄压，保护设备、手套、材料。

5.5水氧报警：箱体内水氧含量超出设定值时报警。

5.6自动清洗：在触摸屏点击箱体自动清洗功能并设定时间，系统将开始清洗箱体。

★6.真空泵

6.1漩涡干式真空泵，流量≥10m3/h、极限真空≤8*10^-3mbar，真空泵有自动启停功能。原装消音器。

7.水分析仪

★7.1陶瓷湿度变送器：PLC显示。

7.2范围：-100~+20℃露点。

7.3精度：±2℃露点。

7.4环境：-40℃ ~ +60℃。

8.氧分析仪

★8.1电化学传感器、独立显示、PLC显示、灵敏度高。

8.2范围：0-10/20/50/100/200/500/1000ppm~25% 微量氧专用电化学电池。

8.3误差：≤±2% FS。

8.4环境：－10℃—50℃。

9.物联网

9.1系统架构：ARM架构、多核处理器、≥1G主频、≥128M内存。

9.2网络连接：4G/LAN上网、电信/移动/联通全网通，快速联网，上网方式更灵活。

9.3远程穿透：远程下载/上传PLC程序，在线监控故障排查更方便。

9.4云端传输：McgsWeb+McgsLink，安全稳定，云端监控，可接入阿里/华为等云平台。

9.5远程监控：PC端/移动端VNC监控，触摸屏和手机、PC监控画面同步。

品目3：电性能测试系统 1套 国产

1.5V/ 2mA & 20mA8C（每组≥8通道）：6组

1.1充电电压：0V---5.0V。

1.2放电电压：0V---5.0V。

1.3恒电压：10mV---5.0V。

1.4精度范围:量程一最大误差≤±2uA、量程二最大误差 ≤±20uA。

★1.5充电电流：2uA -20mA。

★1.6放电电流：2uA -20mA。

2.5V/ 5mA & 50mA8C（每组≥8通道）：3组

2.1充电电压：0V---5.0V。

2.2放电电压：0V---5.0V。

2.3恒电压：10mV---5.0V。

2.4精度范围: 量程一最大误差≤±5uA、 量程二最大误差≤±50uA。

★2.5充电电流：5uA -50mA。

★2.6放电电流：5uA -50mA。

3.5V/ 100mA&1A&6A&12A8C（每组≥8通道）：1组

3.1充电电压：0V---5.0V。

3.2放电电压：0V---5.0V。

3.3恒电压：10mV---5.0V。

3.4精度范围: 量程一最大误差≤±50uA、量程四最大误差≤±6mA。

★3.5充电电流：100 uA -12A。

★3.6放电电流：100 uA -12A。

4.单元通道：≥8通道，通道之间完全独立（独立编程）。

5.编程工步：恒流充放电、恒电压充电以及恒功率放电、支持倍率充放电、恒阻放电、直流内阻测试、支持负电压放电（恒压放电）、静置等工作模式。

★6.编程形式：支持流程图形式编程。

★7.循环保持率：支持记录循环保持率数据（本周的放电容量/上一周的放电容量）*100%。

8.限制条件：时间、电压、电流、容量，-△V等。

9.保护条件：过压、欠压、过流、欠流、过充容量、过放容量等。

★10.编程步数：不少于800步。

11.输入阻抗：≤1GΩ。

★12.设备通讯:设备之间通过422串口通讯；远程控制：支持通过internet远程监控。

13.采样速率：≤100ms，能查看每个记录点的系统时间。

14.输出方式：四电极。

★15.电压精度：≤0.05%FS（控制及检测）、电流精度：≤0.05%FS（控制及检测）。

16.恒功率/恒阻精度：≤0.1%RD+0.1%FS（控制）、≤0.1%RD+0.1%FS（测量）。

★17.通道特点：有独立的硬件恒流源和恒压源、支持掉电保护、支持在线修正电流、电压精度，实现用户“边测试，边校准”。

18.电压分辩率：5位有效数字（自动）、电流分辩率：5位有效数字（自动）。

19.软件：支持Windows7/8/10/11等系统，32/64位操作系统。

20.控制系统要求：≥16G内存，≥500G硬盘，主机带≥2个九针串口（RS232串口），PCI/PCIE扩展接口一个。

品目4：燃料电池测试系统 1套 国产

1.工艺参数

★ 1.1介质：共计5种气体，分别为：氢气、空气、甲烷、氮气、氩气（吹扫气）。

★ 1.2工作温度：≥230℃。

★ 1.3工作压力：≥0.5MPa。

2.设备参数

2.1反应器加热炉：加热炉为开启式，一段独立控温，加热炉带≥2支热电偶。

2.2控温仪表具有程序升温控制功能，升温段数可设置为30+20段时间程序控制功能，测量精度：≤0.2级，显示：≤±1℃，炉子带升降系统，自主调节恒温区域的温度。

2.3反应器固定模块：型式：上下两个模块；设计压力：≥2MPa；设计温度：≥280℃。

★2.4气体管路：管路规格：≥Φ3mm不锈钢管材质：316L，气体来自钢瓶供气，钢瓶气出口压力范围≤15MPa。

★2.5接头：该装置阀门、接头、管线，材质：316L。

2.6气体质量流量控制器：

2.6.1材质：316L

2.6.2准确度：≤±1.5%F.S

2.6.3响应时间：≤4S

2.6.4工作环境温度：5～40℃

2.6.5工作压差范围：0.1～0.3MPa

2.6.6设备耐压：≥3MPa

2.6.17流量范围：0～200mL/min（4台）；0～300mL/min（1台）

2.6.8重量：≤1150 g

3.装置功能

3.1够实现气体流量PID控制功能；

3.2够实现压力显示，压力数据采集；

3.3够实现温度PID控制功能；膜组件反应温度能够实现程序控升温，升温速率可控。

品目5：差示扫描量热仪 1套 国产

▲1.温度范围：-170~600℃（单次测试）。

2.升降温速率：0.001 K/min to 100 K/min。

★3.DSC量程：±600mW。

★4.传感器类型：热流型金属传感器。

★5.基线重复性：（50~300℃）± 10uW。

▲6.制冷方式：单台设备同时安装机械制冷（≤-70℃）和液氮制冷（≤-170℃）。

7.温度准确度：±0.1K(标准金属)。

8.热焓精度：±0.1%(标准金属)。

9.热焓准确度：±1%(标准金属)。

▲10.温度/热焓校正：≥5点非线性校正。

11.气氛：气密性炉体、惰性/氧化，静态/动态。

12.气路：程序控制气体流量的开/关，带≥3个输入和≥2个输出，用于非腐蚀性和非爆炸性气体/混合气体。

▲13.LED状态栏：标配，可实时显示仪器运行状态或故障警报。

★14.控制软件：需包含中英文版控制和分析软件，中文软件需各级菜单和子菜单均为中文显示。

15.智能模式：内置常规材料热性能测试方法，提供简便易用的操作界面。

16.专家模式：则提供全面的控制和数据分析选项，允许用户自行设定各种参数和测试条件。

★17.配置要求：

17.1主机基本单元（含控制和分析软件）：1台

17.2控制系统（不低于i5处理器，≥32G 内存，≥500G硬盘）：1台

17.3机械制冷：1件

17.4液氮制冷：1件

17.5坩埚压机：1台

17.6 铝坩埚：500套

品目6：热重分析仪 1套 国产

★1.炉体结构：垂直顶部装样，便于操作，防腐蚀。

▲2.温度范围：RT—1025℃。

3.加热速度：0.001—200K/min。

4.冷却速度：≤12min (1000—100℃，氮气气氛)。

▲5.冷却方式：水冷。

▲6.STC 样品温度控制功能：使样品实际温度与程序设定温度程序保持一致。

▲7.计算型DTA功能：在热重测量的同时提供了关于样品热效应（包括带质量变化的挥发、分解与不带质量变化的熔融、玻璃化转变等）的重要信息。

8.温度准确度：≤±0.3K。

9.温度分辨率：≤0.001K。

10.热天平类型：超微量电子天平。

11.支架类型：耐腐蚀样品支架，无裸露热电偶。

★12.称量范围：≥2g。

▲13.全量程分辨率：≤0.05ug。

▲14.炉体密闭度：≤1 mbar。

▲15.温度校正：金属标样熔融，≥6个温度校正标样。

16.制冷装置（保证天平室恒温状态）：控温精度±0.03℃，制冷功率≥260W(20℃). 加热功率≥2000W。

17.气路：≥2路，适用于非腐蚀性，非爆炸性气体，也可通入混合气体，可通过软件控制气流种类。

18.测量气氛：静态/动态：惰性，氧化，还原。

19.数据采集软件：分析操作软件是基于Windows？ 系统的软件包，包含所有必要的测量功能和数据分析功能，包括易于理解的中英文菜单操作和自动操作流程，并且适用于各种复杂的分析，既可安装在仪器的电脑上联机工作，也可安装在其他电脑上脱机使用，分析功能包括：

19.1失重台阶、峰值温度可手动或自动标注，单位 ％ 或 mg。

19.2质量-时间/温度标注。

19.3残余质量标注。

19.4可标注失重台阶的外推起始点与终止点。

19.5可对热重曲线作一阶微分（DTG）与二阶微分，并可进行峰值温度标注。

19.6自动基线扣除。

19.7可在热重测试同时得到DTA曲线，并可用于温度校正。

★20.配置要求：

20.1主机基本单元：1套

20.2控制系统（不低于i5处理器，≥32G 内存，≥500G硬盘）：1台

20.3样品支架：1套

20.4恒温水浴：1套

20.5氧化铝坩埚：100个

20.6分析及操作软件：1套

品目7：X射线粉末衍射仪 1套 国产

1.X射线发生系统

▲1.1 X射线管：Cu靶，金属陶瓷X光管，功率≥2.4kW。

▲1.2 X射线管电压：15-60KV。

1.3 X射线管尺寸：X射线管直径≥60 mm，长度≥180 mm。

★1.4 输出稳定性(电源电压浮动)：<10%。

1.5 管电压和电流可手动设定与计算机程序控制切换，光闸开关由计算机终端自动控制。

2.测角仪系统

2.1 立式测角仪：θ/θ 结构。

▲2.2 扫描范围：0°- 160°（2θ）。

2.3 可读最小步长：≤0.0001°，角度重现性：≤0.0001°。

2.4采用高精度轴承与全闭环矢量驱动伺服系统。保证2θ角测量准确性。

2.5 扫描方式：连续扫描。

★3.探测系统：配备高精度半导体阵列探测器

3.1一维阵列探测器子探测器不少于640个。

3.2图像动态范围不小于24bits。

3.3探测器有效面积：≥32mm*8mm。

3.4单个探测器的像素≤50μm。

4.样品台系统：适用粉末、块状定物质性定量等常规分析。

★5.光学系统：配备石墨单色器以及发散狭缝，接收端狭缝等光路部分，以有效抑制kβ。

▲6.冷却系统：制冷量≥2600W，温度范围5-35℃满足设备需求。

7.控制系统及数据输出系统

7.1控制主机（不低于i5处理器，≥32G 内存，≥1T硬盘）。

7.2 显示器（≥32寸）。

8.附件

★8.1配备高温附件，铂金加热单元，最高使用温度≥1200 ℃，控温精度：±0.1°，最大升温速度30℃/min，PID控温，衍射角范围：0～164°。高温附件可以直接在控制软件上进行参数设置和控制。

▲8.2系统预留≥90位自动进样器升级接口，方便后续升级。

★9.安全系统

9.1防辐射保护，带窗口连锁与门连锁，光闸自动开关；门连锁保护(门到指定位置，光闸才打开，产生X射线)。同时推拉门简单方便。

9.2 具备冷却水断水保护功能。

10.数据采集和处理

10.1 全自动数据采集控制软件。

★10.2 提供分析处理软件包：具备图谱编绘、图谱寻峰、求峰面积、峰高、重心、积分宽度、多重峰分离、背景扣除 、数据平滑、图谱对比、定性分析、定量分析等功能，智能读取30多种XRD数据。

11.备品备件: 样品板（≥10个），玛瑙研钵（1个）。